低温高圧装置
本装置は、岩谷瓦斯社製クライオミニM310にDIACELL PRODUCTS社製ガス昇圧型
ダイアモンドアンビルセル(DAC) DXR-GMを搭載したものです。
金属ダイアフラムを高圧ヘリウムガスで膨張させ、
膨張したダイアフラムがDACを押すことによって昇圧します。
温度範囲：10K-300K
圧力範囲：常圧-1Mbar （カタログ値）
概念図
本装置の使用には、熟練した技術が必要です。使用希望の際は、
装置担当者に相談して下さい。
低温高圧装置をMPDに搭載した状態
昇圧用ガスライン
ゴニオに搭載されている状態のガス昇圧DAC